腔體尺寸:10", 12"和14" Ø | 高真空和超高真空結(jié)構(gòu) | 濺射靶尺寸:1.5", 2" 和 3" | 樣品臺尺寸:6" Ø | 基片溫度范圍:LN2-1000°C | 預(yù)真空室/Load lock |基片片盒cassettes | 自動傳樣 | 計算機控制 | 定制化系統(tǒng) | 遠遠優(yōu)于臺式系統(tǒng)
腔室尺寸:18" - 34" | 高真空和超高真空結(jié)構(gòu) |濺射靶尺寸:1" - 12" | 原位偏轉(zhuǎn)濺射靶 | 基片最大尺寸8" | 基片cassette | 內(nèi)置掩膜交換系統(tǒng) | 預(yù)真空室load lock | 自動傳樣 | 計算機控制 | 定制化系統(tǒng)
圓柱型或柜式腔體 | 選配load-lock&cassette | 圓形,三角形或線性濺射靶 | 集成液壓升降或鉸鏈腔門 |
工作于平衡磁控狀態(tài) | 最大化靶材利用率 | 進行高或低濺射速率 | 工作于多種非平衡磁控態(tài) | 進行均勻性或者有意為之的不均勻性沉積 | 到達基片表面的高或低電子能量 | 濺射較厚的磁性靶材 | 方便更換或拆卸磁性靶材