AJA 的ATC Flagship系列濺射系統(tǒng)是一款多功能的物理氣相沉積設(shè)備，可以通過不同的配置來實現(xiàn)不同的需求。這些系統(tǒng)是基于AJA獨有A300-XP (UHV)超高真空或 Stiletto系列 (HV)高真空磁控濺射靶源來配置，這些濺射靶源可以原位偏轉(zhuǎn)，因而可以實現(xiàn)精確的，可重復(fù)的共焦濺射沉積，直接濺射沉積以及離軸濺射沉積。所有系統(tǒng)都配置了重型液壓升降裝置，方便打開腔體上蓋。

以下腔室尺寸可供選擇：

ATC 1800 (18" Ø)

ATC 2200 (22" Ø)

ATC 2600 (26" Ø)

這些功能強(qiáng)大的沉積系統(tǒng)可以集成多種沉積方式（電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)/PLD脈沖激光沉積），離子源，克努森蒸發(fā)池（MBE分子束外延系統(tǒng)），

對靶磁控濺射靶源（FTS），接觸掩模系統(tǒng)，金屬密封腔體，烘干罩，手套箱，基片cassette，自動批量裝載系統(tǒng)，以及分析儀器（RHEED/XPS/Auger/RGA/MOS/橢偏儀等。

可根據(jù)應(yīng)用需求配置Labview電腦控制和渦輪分子泵或低溫泵。所有ATC Flagship系統(tǒng)之間可輕易連接，或者也可以和 ATC Orion系統(tǒng)連接，集成多腔系統(tǒng)（如，金屬或氧化物）或多工藝混合系統(tǒng)（如，濺射/電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)/離子刻蝕/分析儀器）。

主要特點

l 可容納11個2英寸共焦濺射原位偏轉(zhuǎn)靶源

l 超薄薄膜沉積（＜1nm）、沉積速率可控制

l 沉積均勻性:優(yōu)于±1.5% @ 4" (100mm)基片

l 樣品臺: 加熱1000℃、旋轉(zhuǎn)0-40RPM、RF/DC 偏壓

l  RF、DC、Pulsed DC和HiPIMS 等電源

l 可集成4 路 MFC 氣路 (Ar、O²、N²、H² 等.)

l 半自動控制或LabVIEW 計算機(jī)控制

l  Load-Lock/ 預(yù)真空室

l  HV 或UHV (e-10_-7 to e-10_-10 Torr)

l 鍍膜材料：金屬、介質(zhì)、陶瓷、超導(dǎo)、透明導(dǎo)電氧化物、磁性材料、有機(jī)材料、壓電材料等

l 研究方向：磁學(xué)、自旋電子學(xué)、GMR/MTJ等

標(biāo)準(zhǔn)沉積速率&均勻性數(shù)據(jù)