AJA磁控濺射系統(tǒng) Magnetron Sputtering System

• 經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)

  

  經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式濺射系統(tǒng)

   

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• ATC ORION系列 磁控濺射系統(tǒng)

  

  腔體尺寸：10", 12"和14" Ø | 高真空和超高真空結(jié)構(gòu) | 濺射靶尺寸：1.5", 2" 和 3" | 樣品臺(tái)尺寸：6" Ø | 基片溫度范圍：LN2-1000°C | 預(yù)真空室/Load lock |基片片盒cassettes | 自動(dòng)傳樣 | 計(jì)算機(jī)控制 | 定制化系統(tǒng) | 遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于臺(tái)式系統(tǒng)  

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• ATC FLAGSHIP旗艦系列 磁控濺射系統(tǒng)

  

  腔室尺寸：18" - 34" | 高真空和超高真空結(jié)構(gòu) |濺射靶尺寸：1" - 12"  | 原位偏轉(zhuǎn)濺射靶 | 基片最大尺寸8"  | 基片cassette | 內(nèi)置掩膜交換系統(tǒng) | 預(yù)真空室load lock | 自動(dòng)傳樣 | 計(jì)算機(jī)控制 | 定制化系統(tǒng)

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• ATC-B系列 批量鍍膜系統(tǒng)

  

  圓柱型或柜式腔體 | 選配load-lock&cassette | 圓形，三角形或線性濺射靶 | 集成液壓升降或鉸鏈腔門 | 單層，多層膜或共沉積 | 按應(yīng)用配置

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• AJA磁控濺射靶 超高真空&高真空

  

  工作于平衡磁控狀態(tài)  | 最大化靶材利用率 | 進(jìn)行高或低濺射速率  | 工作于多種非平衡磁控態(tài) | 進(jìn)行均勻性或者有意為之的不均勻性沉積 | 到達(dá)基片表面的高或低電子能量 | 濺射較厚的磁性靶材  | 方便更換或拆卸磁性靶材

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