AJA從1991年成立以來已經(jīng)研發(fā)了上百種不同類型的磁控濺射靶，其中包括許多定制化濺射靶。根據(jù)基片幾何形狀、腔室結(jié)構(gòu)、靶材材料組成和薄膜規(guī)格的不同需求可選擇不同型號濺射靶，如矩形，圓形，塔式和圓柱形。

獨(dú)特的模塊磁鐵組合-獨(dú)有的模塊化磁鐵組合，磁鐵完全和冷卻水隔離，因而不會造成磁鐵的劣化，進(jìn)而導(dǎo)致濺射靶源性能的衰減。此種設(shè)計(jì)可以方便用戶接觸內(nèi)部磁鐵組合，便于靶槍的維護(hù)和清潔：

l 工作于平衡磁控狀態(tài)

l 最大化靶材利用率

l 進(jìn)行高或低濺射速率

l 工作于多種非平衡磁控態(tài)

l 進(jìn)行均勻性或者有意為之的不均勻性沉積

l 到達(dá)基片表面的高或低電子能量

l 濺射較厚的磁性靶材

l 方便更換或拆卸磁性靶材

研發(fā)型濺射靶（HV或UHV）

A300-XP UHV原位偏轉(zhuǎn)濺射靶-可獲得最佳均勻性

AJA 的濺射靶可以實(shí)現(xiàn)原位偏轉(zhuǎn)。如圖，這種可偏轉(zhuǎn)濺射靶可以在真空腔體外對靶偏轉(zhuǎn)角度進(jìn)行精確控制。當(dāng)工作距離，工作氣壓與工作材料改變時，靶入射角度的精確調(diào)節(jié)是獲得材料均勻性的關(guān)鍵。靶角度固定不變的配置往往會限制系統(tǒng)整體性能，而原位偏轉(zhuǎn)靶可以在基片尺寸2倍于靶材尺寸的情況下，獲得優(yōu)于 ± 1.5%的薄膜均勻性。