等離子刻蝕 Plasma Etching

• ICP-RIE 等離子體刻蝕機

  

  納米結(jié)構(gòu)低損傷刻蝕 

  簡單高速率刻蝕 

  內(nèi)置ICP等離子源 

  動態(tài)溫控 

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• 經(jīng)濟型反應(yīng)離子刻蝕機

  

  現(xiàn)價比高

  擴展性強

  控制軟件 

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