AJA 國(guó)際公司的 ATC 系列多技術(shù)系統(tǒng)，通途廣泛，集成了多種沉積，刻蝕方式和單腔室內(nèi)分析操作（混合系統(tǒng)）或多腔室內(nèi)（多腔系統(tǒng)），以實(shí)現(xiàn)基片腔對(duì)腔內(nèi)置傳送，并且不會(huì)破壞真空環(huán)境。

標(biāo)準(zhǔn)多技術(shù)系統(tǒng)裝置

 ATC-Orion UHV雙腔系統(tǒng)，帶通用預(yù)真空室

系統(tǒng)特點(diǎn)，濺射和蒸發(fā)工藝腔，帶 8 個(gè) A320-O 2 " UHV 濺射靶，1 個(gè) 6 槽 15ccUHV 電子 槍?zhuān)? 個(gè)熱阻濺射靶，可加熱至 850°C 基片加熱器，帶射頻偏壓電源，次級(jí)偏轉(zhuǎn)/冷卻/臺(tái)， RHEED，電腦控制，預(yù)真空室片盒，帶內(nèi)置掩模交換系統(tǒng)，可容納直徑4英寸基片和腔對(duì)腔傳送系統(tǒng)。

ATC UHV 雙腔室

雙 UHV ATC 1800/2200（濺射/電子束）系統(tǒng)，帶 4 個(gè) A320-XP 2 " UHV 濺射靶，可內(nèi)置偏轉(zhuǎn)，2 個(gè) 4 槽 15ccUHV 線性電子槍。射頻離子源，1200l/s 渦輪分子泵，加熱至 850°C 旋轉(zhuǎn)基片加熱器，帶射頻偏壓電源，電腦控制盒通用頂點(diǎn)預(yù)真空室，可容納最大直徑 100mm 基片。

ATC 雙腔室，帶通用片盒預(yù)真空室

雙濺射系統(tǒng)由通用 6 卡槽片盒預(yù)真空室和真空箱連接而成。左邊腔室包漢口 7 個(gè)固定角度濺射源和 1.0 x 10_-8 極限真空。右邊腔室特點(diǎn)，一個(gè)完整的烘干罩，4 個(gè)內(nèi)置偏轉(zhuǎn)濺射靶，一 個(gè)有柵極離子束源和 10_-10 極限真空。

ATC 雙腔室-濺射/脈沖激光沉積

右邊腔室是一個(gè)全功能的 ATC 2200 系統(tǒng)，帶 6 個(gè) UHV 濺射靶，內(nèi)置偏轉(zhuǎn)和可加熱至 850°C 基片加熱器，帶射頻偏壓電源，Z 軸移動(dòng)和方位角旋轉(zhuǎn)。左邊腔室背部有激光，通過(guò)安全管道接入，還有一個(gè) 6 角靶材轉(zhuǎn)臺(tái) PLD。此腔室還帶有一個(gè) 850°C 加熱器和高壓，兩個(gè) 不同泵控的 RHEED。由一個(gè)通用頂點(diǎn)預(yù)真空室連接。

單腔組合工藝系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn)配置

ATC 1800-HY

集成了共聚焦濺射，一個(gè) 6 槽線性電子束濺射靶，離子刻蝕和一個(gè)可伸縮濺射靶，滿足短工作距離直流濺射（如 Nb 超導(dǎo)體）。此超高真空設(shè)備還能集成一個(gè)±200°偏轉(zhuǎn)樣品臺(tái)， 帶基片冷卻和方位角旋轉(zhuǎn)。

ATC 2030-HY

ATC Orion 8-E-HY

該設(shè)備功能強(qiáng)大，帶有一個(gè)直線型電子束源，一個(gè)3 英寸帶內(nèi)置偏轉(zhuǎn)的超高真空濺射靶，和一個(gè)預(yù)真空室，可以匹配多種不同類(lèi)型樣品托。