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AJA 的 ATC 離子束刻蝕系統(tǒng)用途廣泛，可根據需求定制化配置。根據用戶應用特點，這些定制化系統(tǒng)采用了超高性能的樣品臺和離子束源。腔室大小從直徑 10"-22"不等，還能夠配置電腦控制系統(tǒng)，預真空室，自動裝載和可帶掩模交換系統(tǒng)的 6 卡槽片盒。
這些系統(tǒng)的特點具有獨一無二的刻蝕平臺設計，在相當廣泛的工藝應用中它可以最大容納直徑為8”的樣品，從微納結構描繪到晶圓平整化。這些樣品臺由AJA獨立設計與生產，并且還有許多市場需要的功能特性可供選擇，比如冷卻、偏轉和旋轉系統(tǒng)。針對冷卻系統(tǒng)，我們可以提供多種方式，包括水冷、液氮、背部氦氣或氬氣結合冷卻，帶有同步旋轉和偏轉功能。
AJA 生產并集成了大量技術先進的有柵極，無柵極和 RF 射頻離子束源，能夠很容易地配置到相應設備上，包括反應和惰性刻蝕工藝。這些離子束源能夠根據您的需求進行安裝，可以直接對準基片或成一定入射角工作。
標準離子束刻蝕系統(tǒng)配置
ATC-2020-IM
配置包括一個 14cm，有柵極，射頻離子源，用于刻蝕最大直徑為 100mm 的基片。系統(tǒng)特點是有一個 700l/s 渦輪分子泵，電腦控制，SIMS 終點檢測和樣品臺，電動偏轉，旋轉和水冷配置。
ATC-2036-IM
上圖示系統(tǒng)配置了一個射頻 22cm 有柵極離子源，均勻刻蝕最大直徑為 150mm基片。特點是一個 2000l/s 渦輪分子泵，電腦控制，SIMS 終點檢測，2 個沉積鈍化膜層濺射靶和樣品臺，帶電動偏轉，旋轉和水冷。SiO2 刻蝕速率 320 Å/min，不均勻性±2%。
ATC-2036-IM with Motorized UNO
電動 UNO 系列樣品臺安裝在一個滑動裝置上。AJA UNO 系列樣品臺特點是基片同步旋轉、水冷和偏轉，可根據精度需求調節(jié)離子束入射角角度。 圖示裝置帶可編程，電動偏轉(±90° ) ，并且安裝在了一個可伸縮滑軌上，可以輕易裝/卸載和維修基片。
ATC-1800-IM-R
采用 14cm 有柵，射頻離子源提高均勻性，反應刻蝕最大直徑 100mm 的基片，一個 2000l/s 渦輪分子泵，電腦控制，可伸縮法拉第杯，帶為鍍鈍化膜層配置的濺射槍的預真空室和一個樣品臺，帶電動，偏轉，加熱/冷卻(5-200°C)。此工具可通氯氣并帶一個 4 路 MFC 有害氣體箱。
典型速率和不均勻性數(shù)據
