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AJA 國(guó)際公司的 ATC-T 熱蒸發(fā)系統(tǒng)有圓柱形（超高真空型）和箱式（高真空型）裝置。這些系統(tǒng)性價(jià)比高且都采用的是高品質(zhì)零件。它們沿用了許多 ATC&ATC ORION 濺射系統(tǒng)的特點(diǎn)和通用部件，并且還能裝置 AJA 獨(dú)有的 300Amp 水冷熱蒸發(fā)源，克努森蒸發(fā)池，有機(jī)材料低溫蒸發(fā)池，和 Luxel Radak 蒸發(fā)源。此外，這些系統(tǒng)都能配置 AJA 磁控濺射靶，預(yù)真空室，QCM石英晶體微天平，加熱或冷卻樣品臺(tái)，行星齒輪，各種泵組和自動(dòng)控制系統(tǒng)。
標(biāo)準(zhǔn)蒸發(fā)速率/膜均勻性數(shù)據(jù)
標(biāo)準(zhǔn)熱蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
ATC Orion 5-T
3 個(gè) AJA 熱蒸發(fā)源，帶可加熱至 850°C 基片加熱器
ATC Orion 8-T
配置 3 個(gè) Luxel Radak 爐，可加熱至 850°C 基片加熱器和渦輪分子泵預(yù)真空室
ATC 1800 T
可最多容納 4 個(gè) Radak 爐和 4cm K&R 有柵離子源，用于預(yù)清洗和離子輔助熱沉積。蒸發(fā)源包含可控制共沉積的獨(dú)立 QCM 隔離管道和一個(gè)可加熱至 850°C的樣品臺(tái)。
ATC 2200-T UHV
多用途的超高真空系統(tǒng)能夠容納 6 個(gè) Radak 沉積爐或滑動(dòng)機(jī)制上的 5 槽直線型電子束蒸發(fā)源。另還有 6 個(gè) QCM 測(cè)頭，帶隔離管道，以控制共沉積。有柵離子源和若干熱蒸發(fā)源可供選擇。
ATC 2030-T 箱式鍍膜機(jī)
熱箱式鍍膜機(jī)帶液氮基片冷卻，4 個(gè) AJA300A 熱蒸發(fā)源和一個(gè)渦輪分子泵預(yù)真空室。
