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AJA 的蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)有三種不同的型號：ATC-E, ATC ORION-E （比 ATC 和 ATC-Orion 更高的型號）和 PVDX（一種穿墻箱式鍍膜裝置）。這些設備都能在有限的預算下實現(xiàn)性能和質(zhì)量的最優(yōu)化。這些設備沿用了許多 ATC & ATC ORION 濺射設備的設計特點和通用部件，且都適用于HV高真空和UHV超高真空，還能配置單槽或多槽，直線和旋轉電子束蒸發(fā)源，熱蒸發(fā)源，離子/等離子體蒸發(fā)源，克努森蒸發(fā)池（分子束外延系統(tǒng)），有機材料低溫蒸發(fā)池，Radak 蒸發(fā)源，磁控濺射靶等。此外，這些系統(tǒng)還能配置預真空室，QCM石英晶體微天平監(jiān)控和控制，加熱或冷卻的樣品臺，行星齒輪，不同的泵組和自動控制裝置等。
標準蒸發(fā)速率/均勻性數(shù)據(jù)
標準電子束蒸發(fā)系統(tǒng)配置
ATC-ORION-8E UHV
結構緊湊，經(jīng)濟型超高真空鍍膜機，帶5槽直線型電子束蒸發(fā)源，安裝在滑動機制上，便于裝載和維修。系統(tǒng)另一個特點是渦輪分子泵預真空室。
ATC-2200-E
直徑 22 英寸，高 36 英寸超高真空電子束蒸發(fā)器，帶 5 槽直線型，超高真空電子束源，2 個Radak熱蒸發(fā)器和渦輪分子泵預真空室。
ATC-2030-E HV
6 槽旋轉電子束蒸發(fā)源，帶預真空室，水冷樣品臺和前置輻射基片加熱。
ATC-2036-E HV
6 槽旋轉電子束蒸發(fā)源，帶可加熱至 1000°C 基片加熱器和線性控制可編程的基片擋板，用于楔形膜。
